2010年2月24日，全国微机电技术标准化技术委员会（下称“标委会”）一届二次会议暨2009年年会在京召开。标委会秘书处挂靠单位中机生产力促进中心主任李勤到会并讲话，标委会秘书长丁红宇研究员对标委会2009年度工作及2010年工作计划做了详细介绍。
2009年，标委会在对国内外微机电标准现状及发展趋势的分析基础上，结合我国微机电技术领域的标准化方面的需求进行了调查与分析，提出了标准体系框架及标准明细表，明确了今后三年的工作重点；自主制定《微机电系统（MEMS）技术 术语》等七项标准；与北京大学等单位共同承担了科技部863计划先进制造技术领域的“硅基MEMS制造技术标准研究”课题，确保了标委会工作与科研工作的紧密结合。同时，标委会还参与了IEC/TC47和ISO/TC213的2009年年会，掌握了国际标准化工作的动态和技术发展趋势。
2010年，标委会在对标准体系不断完善及加大标准科研力度的基础上，将完成《硅基MEMS制造技术 KOH腐蚀工艺规范》等四项国家标准的制定工作，并提交《半导体器件 微机电器件 第4部分：MEMS总规范》等四项国家标准的立项建议及标准初稿。同时，标委会将与其他单位共同承办2010年6在中国召开的SC47E/WG2、SC47E/WG1、SC47F/WG1会议和中日韩MEMS研讨会，并提交《微机电系统（MEMS）技术 微几何量评定总则》等四项国际标准提案。